可同时安装六个靶,腔体内本底真空可达5×10-9Torr,基片可在真空或者1个大气压的氧气环境下加热至850℃,集成高压RHEED,CCS模块等。
脉冲激光照射靶材,靶表面材料被激光气化为高温高压等离子体,输运到待沉积衬底之上凝聚成核形成薄膜。属于利用物理气相沉积法
P180英寸基片系统、光学系统、预真空系统、高压RHEED、CCS连续组成扩展、Z轴自动升降