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卷绕式 PECVD 薄膜沉积系统
仪器编号
202201077
规格
基材幅宽：350mm；极限真空：5 ×10-5Pa；张力控制范围 0~200N，控制精度±2%。
生产厂家
北京创世威纳科技有限公司
型号
FRC-5100
制造国家
中国
分类号
03060302
放置地点
Array
出厂日期
2014-05-12
购置日期
2014-05-12
入网日期
2022-09-07
主要规格及技术指标
可利用 PECVD 方式在柔性基材表面上镀膜，基材幅宽：350mm；极限真空：5 ×10-5Pa（环境湿度≤55%）；张力控制范围 0~200N，控制精度±2%。
主要功能及特色
可在柔性基材上利用等离子体增强化学气相沉积（PECVD）方式实现卷绕式镀膜。
主要附件及配置
罗茨泵，分子泵
| 公告名称 | 公告内容 | 发布日期 |
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