仪器分类
磁控溅射沉积系统
磁控溅射沉积系统
仪器编号
2019024506
规格
生产厂家
众谱
型号
CK-450
制造国家
中国
分类号
放置地点
Array综合科研楼317
出厂日期
2019-07-08
购置日期
2019-07-08
入网日期
2026-05-27

主要规格及技术指标

主要功能及特色

CK-450型三靶磁控溅射仪适用于6英寸及以下尺寸的基片镀膜,可溅射材料包括金属(如 Ti、Pt、Ag、Cu、Al等)、氧化物(如 ITO、ZnO、TiO₂等)、氮化物(如TiN、NbNₓ)及其他化合物薄膜。

主要附件及配置

公告名称 公告内容 发布日期