主要规格及技术指标

设备各个腔体通过气动插板阀相互隔离，能够同时完成不同种类材料的制备，其中PL2腔体是用来沉积P型掺杂层（硼掺杂），PL3腔体是用来沉积本征非晶微晶硅薄膜，PL4腔体是用来沉积N型掺杂层（磷掺杂），PL5中有三个独立的靶材，分别是掺铝氧化锌（AZO）靶、铟锡氧化物（ITO）靶和银（Ag）靶。PL7腔体是用来生长本征微晶硅氧及非晶硅氧薄膜。
衬底尺寸：15.6*15.6cm
沉积厚度：100纳米~3微米

主要功能及特色

星形结构多腔室薄膜沉积系统（Cluster），由美国MVSystems公司设计制造，主要构成部分为中央传输腔（ITZ）和以ITZ为中心环绕的真空进样腔（LL）、PL3、PL5等独立薄膜沉积腔室。借助于ITZ腔室的机械臂，可根据设定好的程序按次序执行实验步骤，并精确的对样品进行装载和转移。此外，由于各独立腔室与中央传输腔之间闸板阀门的存在，可有效避免薄膜沉积过程中气体或材料产生的交叉污染，因而能同时进行不同种类薄膜的制备。

主要附件及配置

尾气燃烧炉