主要规格及技术指标

该设备可在柔性不锈钢/PEN衬底完成卷对卷的PECVD沉积工艺；或对平板玻璃衬底（厚度≤3mm）进行静态PECVD沉积。用户可在计算机上完成功能设置、工艺参数设定等操作，计算机及PLC对沉积过程实现自动控制、报警等安全功能

主要功能及特色

微晶硅薄膜高速沉积系统，适用于非晶硅、微晶硅、氧化硅等薄膜材料的制备研究，主要可沉积薄膜应包括掺杂（n型、p型）及本征非晶硅薄膜、掺杂（n型、p型）和本征微晶硅薄膜、非晶和微晶SiC薄膜、氧化硅薄膜等用于太阳能电池的薄膜材料，并能通过控制反应器内等离子体密度、压强等参数条件，实现微晶硅薄膜的高速率生长。

主要附件及配置

无