主要规格及技术指标

1、真空腔体尺寸：Φ600mm*650mm；
2、极限真空度优于:6.0*10-5Pa；
3、基片最高烘烤温度优于：600℃；
4、真空钟罩尺寸：Φ300mm*350mm；
5、靶座尺寸及数量：4 英寸、三套；

主要功能及特色

各种金属薄膜的溅射蒸镀，各种金属、非金属化合物薄膜的溅射沉积，应用于各种金属薄膜的溅射蒸镀，制备Janus活性颗粒。

主要附件及配置

无