主要规格及技术指标

该设备为非标真空镀膜设备，可在柔性基材上利用磁控溅射技术实现卷对卷连续镀膜。基材幅宽：350mm；极限真空：1×10-4Pa；孪生磁控溅射靶，靶面尺寸550mm×80mm；张力控制范围0~100N，控制精度±2%；镀膜横向不均匀性：≤ 5%。

主要功能及特色

利用该卷绕式磁控溅射镀膜设备，可以在柔性基材上镀制金属、金属氧化物等材质的功能层。

主要附件及配置

无