主要规格及技术指标

（1）样片尺寸：4英寸；（2）反应腔室：6061铝材，表面阳极氧化处理；（3）分子泵，防腐油泵真空系统；（4）本底真空优于5x10-4Pa；（5）500w射频功率源；（6）触摸屏操作，自动/手动操作；（7）设备尺寸：80cm * 100cm。

主要功能及特色

反应离子刻蚀机作为工艺非常成熟的微纳半导体芯片加工设备，被广泛应用于科研以及芯片集成加工，是实现各向异性干法刻蚀各种芯片材料而形成微纳尺寸图案的必备设备。

主要附件及配置

无