主要规格及技术指标

真空度：进样室真空度优于7*10-7Pa，分析室真空度优于5*10-8Pa。
单色化X射线源（Al Kα射线源）：最小分析尺寸（束斑）≤20μm；束斑在20μm-900μm连续可调，调节步长≤10μm。
最小能量分辨率≤0.45ev；能量分辨率和灵敏度在正常工作条件下对Ag3d5/2峰，半高宽度优于0.45ev；计数率强度高于100kcps。
离子散射谱（ISS）：能量分辨率和灵敏度 15ev@20kcps/nA。
高分辨场发射俄歇光电子能谱（AES）:最佳空间分辨率 10Kev/5nA时优于95nm。
离子刻蚀：Ar+源，单离子刻蚀和团簇刻蚀模式可选。
紫外光电子能谱（UPS）：He紫外光源。能量分辨率，对Ag费米边能量分辨率≤100mev;灵敏度≥1*106cps；

主要功能及特色

该设备主要适用于粉末、薄膜、金属、高分子材料的表面几个原子层（1-10纳米厚度）的化学组成、价态、深度剖析及功函数特性的分析与表征。在材料的表面成分分析、化学态鉴定、污染物检测、薄膜或涂层的表征、催化剂基础研究及失效分析等方面应用广泛。

主要附件及配置

ESCA标准主机系统，测试系统。微区ESCA、UPS紫外光电子能谱、AES俄歇光电子能谱、离子深度刻蚀等。