主要规格及技术指标

可同时安装七个靶，腔体内本底真空可达1.5x10-6Tor，基片可在真空或者1个大气压的氧气环境下加热至500℃，高度集成化自动控制系统。

主要功能及特色

配备七个溅射靶材，可在一次镀膜过程中使用不同的靶材进行溅射，从而在基材表面形成由多种材料组成的复合薄膜，或者通过切换不同靶材进行多层膜的连续沉积.

主要附件及配置

无