先进的离子研磨和抛光系统,适合高质量的、薄的、电子透明的TEM制样。离子加速电压可编程可连续变化,可从高达6.0keV的快速铣削到100eV的最终标本抛光。
可调电压0.1 ~ 6.0kV工作(连续可调)当前:100 na-10μA最大光束密度:10mA/cm2入射角:-10°-10°样品旋转角度:0-360°
离子枪,两个离子源,真空系统,显微镜。