主要规格及技术指标

（1）结构尺寸：抽屉式结构，最大可镀基片尺寸：112×112mm，该范围内可装卡各种规格基片；基片台配有气动挡板；基片掩膜：随设备提供一块掩膜板（客户需需提供掩膜图案）；基片台配有气动挡板，磁流体密封；
基片台旋转：旋转速度0-25转/分连续可调，磁流体密封，光控定位，设定在前门中心位置方便取样； 基片台水冷；采用基片台背板通冷却循环水强制水冷；
（2）3组蒸发源，采用水冷式蒸发电极，可长时间稳定工作，兼容金属材料和有机材料的蒸发源结构设计；源间配隔离挡板，源上有独立挡板（两源）；光学系统：固定光栏、可变光栏、快门、准直镜镜1、准直镜镜2、蝇眼透镜组（109个透镜）、i线滤光片、场镜、冷光反射镜1、反射镜2
（3）采用膜厚监控仪和开发的膜厚控制程序，蒸镀过程中实时监测蒸发速率，监控膜厚；厚度监测范围：1Å～9999Å，分辨率± 0.1Å（进口）；速率监测范围：0.1Å～99.9Å /s，分辨率±0.1Å。

主要功能及特色

无

主要附件及配置

无